經(jīng)過等離子改性后親水性極性官能團的數(shù)量明顯增加,這些基團與水分子相互作用強烈,從而增加了PLA的表面潤濕性和表面能,降低了接觸角。...
2022-09-14等離子體處理可以通過將含氧基團和含氮基團引入PVC導(dǎo)管表面的方法,使其表面極性改變,提高表面潤濕性,使接觸角(水)降低到10°左右。...
2022-09-14SU-8光刻膠是由C、H、O、N等元素組成的有機物。等離子去膠工藝采用的刻蝕氣體是O2/CF4混合氣體。隨著溫度的升高,被激活的氧等離子與有機物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),破壞了光刻膠中較穩(wěn)定的化學(xué)成分。同時,F(xiàn)的自由基化學(xué)活性很高,在電離過程中不斷地與光刻膠中H發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而生成氟化氫(HF),促進了O2與有機物反應(yīng),生成的氣態(tài)物質(zhì)最終被清洗氣體(N2)通過抽壓方式排出。...
2022-09-14高分子材料的等離子體表面處理通常采用輝光放電低溫等離子體,由相互作用引起的表面原子層的變化不超過幾個原子層,因而不會破壞或改變材料的體相性質(zhì)。...
2022-09-11在正常情況下,硅基光學(xué)元件和CF4和SF6等刻蝕氣體是很難進行反應(yīng)的。而將刻蝕氣體通過自由基等離子體源電離產(chǎn)生自由基等離子體,含有的大量自由基反應(yīng)活性十分強,可以破壞硅基光學(xué)材料的化學(xué)鍵,從而發(fā)生了反應(yīng)并且與之結(jié)合產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)SiF4,達到刻蝕目的。...
2022-09-10除了以上水滴角測試,達因值測試,拉力值測試幾種簡單評價評估等離子清洗機清洗效果的方式,其他還可以通過傅立葉紅外光譜測試表面成分,原子力顯微鏡測試表面形貌結(jié)構(gòu)與粗糙度,還可以通過場發(fā)射掃描電子顯微鏡( FE-SEM )研究等離子清洗對表面形貌的影響,還可以通過百格測試檢測表面張力是否達標。...
2022-09-09在半導(dǎo)體行業(yè)等離子清洗機已廣泛應(yīng)用于表面清洗及活化,以提高表面的粘結(jié)性,能為后繼的芯片粘接、導(dǎo)線連接或塑料封裝工藝做準備。等離子污染物清除和表面活化技術(shù)改善了表面性質(zhì),從而提高了半導(dǎo)體封裝工藝的可靠性和產(chǎn)量。...
2022-09-08低溫等離子體處理丁腈橡膠材料,可以使其表面活化,引入極性基團,改善其表面親水性,從而提高其表面的粘接強度。這主要與改性處理后羥基(C-OH) 、羧基( -COOH) 等親水性含氧官能團含量的增加有關(guān)。...
2022-09-08CF4(四氟化碳)在等離子清洗工藝中主要有兩個作用,一個是用來刻蝕,能對更種有機表面實現(xiàn)刻蝕,如光刻膠去除。另一個能使被等離子處理材料表面變得疏水。 ...
2022-09-07通過對PCB焊盤(Pads&Lands)的(plasma)等離子清洗處理,能清潔表面的有機物和氧化物,有利于提高SMT焊接品質(zhì)并降低金手指的接觸電阻。...
2022-09-07今后雙面COF撓性基板的孔徑會達到50μm甚至更小,孔的厚徑比就會很大,溶液很難進入孔內(nèi),這種情況下可以優(yōu)先考慮使用等離子清洗。等離子清洗工序簡單、綠色環(huán)保、效率高、能深入微細孔眼和凹陷內(nèi)部、真空度容易實現(xiàn)、應(yīng)用范圍廣、可以改善材料表面性能。...
2022-09-07磁控濺射鍍膜設(shè)備利用濺射方法,實現(xiàn)快速 和低溫薄膜生長,與熱蒸發(fā)和電弧鍍相比,磁控濺 射沉積薄膜過程穩(wěn)定、 控制方便、 靶材設(shè)計性強, 易獲得大面積均勻薄膜;同時,磁控濺射成膜的離 子能量高于熱蒸發(fā)、 低于電弧鍍,易獲得附著力 強、致密度高 、內(nèi)應(yīng)力小的薄膜 。...
2022-09-06