微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)組成介紹

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-06-01

微波等離子清洗機(jī)總體結(jié)構(gòu)分為五個(gè)部分：設(shè)備主體、真空系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和供氣系統(tǒng)。微波等離子清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)示意見(jiàn)圖1。其清洗過(guò)程是：在真空腔內(nèi)壓力到達(dá)一定范圍時(shí)充入工藝氣體,當(dāng)腔內(nèi)壓力為動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體電離，生成等離子體，活性等離子體對(duì)被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)抽真空排出，而達(dá)到清洗目的。

圖一微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖

真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

微波等離子清洗機(jī)真空系統(tǒng)主要包括等離子工作腔、磁流體密封、真空連接管道（包含氣動(dòng)角閥）、真空測(cè)量計(jì)及真空泵等。
激發(fā)的微波等離子體在工作腔內(nèi)形成特定的等離子分布，對(duì)放置在工作腔內(nèi)的被清洗工件進(jìn)行清洗及表面處理，為此，工作腔內(nèi)需要包含真空、充氣、放置樣品支架、觀察窗口等設(shè)施，以確保特定應(yīng)用的需要。

微波放電系統(tǒng)

微波源
微波放電系統(tǒng)主要由微波源及微波反應(yīng)腔組成，微波源是將交流電源轉(zhuǎn)變成微波功率的部件，典型微波源是由磁控管及其供電電源、微波傳輸系統(tǒng)、冷卻裝置等組成。

微波反應(yīng)腔
微波反應(yīng)腔是微波等離子體系統(tǒng)中最核心的元件，需要根據(jù)不同系統(tǒng)的具體要求專門設(shè)計(jì)、加工。微波反應(yīng)腔的作用在于確保微波功率在腔中形成特定的模式分布，并使之和特定的等離子體、目標(biāo)反應(yīng)物產(chǎn)生最有效的相互作用，從而穩(wěn)定的激發(fā)并維持等離子體。

微波反應(yīng)腔的主要功能歸結(jié)起來(lái)有兩條：一是最佳的功率傳輸和耦合；二是最佳的互作用效果。一般來(lái)說(shuō)，微波反應(yīng)腔是這樣一套裝置或終端互作用系統(tǒng)：它將微波功率以最佳的匹配或最小的反射耦合至該裝置，并在其中形成特定的電場(chǎng)分布，使之能與被處理的工件產(chǎn)生最佳的互作用效果。

供氣系統(tǒng)

供氣系統(tǒng)設(shè)計(jì)通過(guò)控制質(zhì)量流量計(jì)來(lái)調(diào)整和控制工藝氣體流量。

以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)組成的簡(jiǎn)單介紹。微波等離子清洗機(jī)主要用于去除集成電路制程及封裝過(guò)程中所產(chǎn)生的污染物，提高工件表面活性，尤其一些敏感器件制程中的去膠和清洗。