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等離子清洗光學(xué)元件表面有機(jī)污染物

文章出處:等離子清洗機(jī)廠(chǎng)家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2022-04-20
等離子體清洗可以有效去除有機(jī)污染物,恢復(fù)光學(xué)元件性能和表面形貌,并提高元件的抗有機(jī)物污染能力。等離子體清洗在無(wú)殘留、無(wú)二次污染且效率高的方面具有明顯優(yōu)勢(shì),為光學(xué)元件的處理提供了一種新的思路和方法。

等離子體清洗主要是基于等離子體放電產(chǎn)生的大量活性粒子,在一定條件下,這些活性粒子會(huì)與被清洗物體表面污染物發(fā)生反應(yīng),達(dá)到清洗的效果。

等離子體清洗主要分成兩個(gè)反應(yīng)過(guò)程。在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中,活性粒子與有機(jī)分子結(jié)合,發(fā)生解鏈,中間形成新的不穩(wěn)定基團(tuán),最后分解成易揮發(fā)的二氧化碳和水;在物理反應(yīng)過(guò)程中,活性粒子在電場(chǎng)作用下,以一定速度和能量撞擊被清洗物體表面,克服分子與表面的結(jié)合力,使表面污染物分子分解或脫落,達(dá)到清洗的目的。

其中,低壓等離子體清洗技術(shù)根據(jù)等離子體放電方式的不同,主要分為電暈等離子體清洗,輝光放電等離子體清洗以及射頻等離子體清洗。低壓等離子體清洗一般是在真空環(huán)境中進(jìn)行的,在低壓條件下,電子、中性粒子和離子幾乎不發(fā)生碰撞而損失能量,增加了粒子碰撞前的距離,加大了活性粒子撞擊表面和與污染物結(jié)合的概率,同時(shí)由于在真空腔內(nèi)方向性不強(qiáng),有利于清洗表面具有疏松多孔結(jié)構(gòu)鍍層的光學(xué)元件。

低壓等離子體清洗有機(jī)污染物的微觀反應(yīng)過(guò)程中,確實(shí)生成了含C=O鍵的不穩(wěn)定中間產(chǎn)物,并且經(jīng)過(guò)一段時(shí)間的反應(yīng)后,等離子體可以完全分解有機(jī)污染物。

低壓等離子體清洗可以有效恢復(fù)光學(xué)元件的選擇透過(guò)性能和抗激光損傷性能;可以有效去除光學(xué)元件表面附著的有機(jī)污染物,不會(huì)造成二次污染;可以有效恢復(fù)光學(xué)元件的表面形貌,實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)元件的全面恢復(fù)效果。

低壓等離子體清洗不會(huì)改變光學(xué)元件增透膜成分,反應(yīng)過(guò)程中會(huì)形成表面羥基,使元件表面自由能及其極性分量提高,顯著增強(qiáng)元件的表面潤(rùn)濕性;不會(huì)損傷光學(xué)元件,并且可以提高元件的抗有機(jī)物污染能力。

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